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记者丨彭新编辑丨朱益民 刘雪莹
近期，作为半导体制造最核心环节的光刻机赛道走热，国产产业链相关标的在二级市场热度空前，A股光刻机产业链标的波动，高度吸引着市场的目光。
9月24日，21世纪经济报道记者在上海国家会展中心举办的第二十五届中国国际工业博览会上看到，上海微电子（SMEE）展台上首次公开亮相极紫外（EUV）投影微场曝光装置，及其部分技术内容的对外披露。
行业脉动直接传导至二级市场，叠加近期半导体行业涨价预期不断催化的影响，光刻机概念涨势如虹。
9月24日，光刻机概念龙头张江高科（600895.SH）涨停，股价再创历史新高；同期，江丰电子（300666.SZ）涨超17%，联合化学（301209.SZ）、先锋精科（688605.SH）、洪田股份（维权）（603800.SH）、富创精密（688409.SH）涨超5%。时间线拉长，截至9月26日，Wind光刻机指数近一年涨幅近130%，其中9月24日创下阶段新高。
根据张江高科此前互动易披露消息，公司通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子公司22345万元，持有上海微电子公司10.779%的股权。
江丰电子为光刻工艺的前道工序（沉积）提供关键材料，并为后道工序（刻蚀）等相关设备提供精密零部件。
据其此前年报披露，江丰电子研发的“半导体用多层薄壁钛合金扩散焊接项目”，用于制备28nm以下节点的光刻机核心冷却部件，已进入量产阶段，有望切入光刻机设备核心部件领域。
对于光刻机市场，中航证券研报指出，中国大陆光刻机市场空间广阔，但主要依赖荷兰、日本等地进口。
出口管制阴影下，光刻机供给不确定性上升，走向自主可控已无可回避。
待征服的高地
光刻机决定了半导体加工的最细线宽，通过曝光和光刻胶使晶圆表面产生电路图形，是芯片制造中最复杂的设备。设备的核心包括光源系统、照明系统/投影光学系统以及用于保持晶圆和掩膜运动的双工件台，其中每个系统都由数万个甚至十万多个零件构成。
目前市场上的光刻机主要分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代，销售结构以中低端的KrF、i-line为主，ArFi、ArF、EUV占比较小，EUV是全球光刻机的重要发展方向之一。
从全球市场来看，阿斯麦（ASML）独占鳌头，成为唯一的一线供应商，占据全球八成以上的市场；旗下产品覆盖全部级别光刻机，垄断最高端的EUV市场。ASML 2025年二季度财报显示，其净销售额为77亿欧元，环比持平，同比增长23%；净利润为23亿欧元，环比下降约2.8%，同比增长45%。该季度，ASML的光刻机系统销售收入为56亿欧元，其中EUV销售额为27亿欧元，非EUV销售额为29亿欧元；当季售出EUV 11台、DUV 64台。
ASML之外，日本光刻机双雄尼康、佳能的市场份额仅在个位数徘徊。尼康凭多年积累勉守二线，佳能位居第三；两者出货亦以成熟制程设备为主。佳能主要集中在i-line领域，并在技术上押注纳米压印光刻；尼康除EUV外均有涉猎。
与海外龙头相比，国产光刻机整体仍有明显距离。
东兴证券研报指出，光刻机国产化率仅2.5%，上海微电子为国产光刻机绝对龙头。目前，上海微电子是中国第一家也是唯一一家光刻机厂商，出货量占国内市场份额超过80%，产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域，已具备90nm及以下的芯片制造能力。
华金证券认为，在产品上，上海微电子对标佳能，皆用于成熟制程，浸没式产品暂未推出。目前，上海微电子已量产光刻机主要有SSX600、SSX500、SSB300、SSB200小Mask、SSB200大Mask等系列。其?
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